Películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN)
20/Sep/2012

Este documento pretende hacer una revisión de las principales características estructurales y morfológicas del nitruro de aluminio –AlN- específicamente cuando este es depositado por Magnetrón Sputtering ó por medio de Ablación Láser (PLD). Igualmente como influyen los parámetros de crecimiento como presión de gas ambiente (N2), temperatura de sustrato o tiempo de deposición en la calidad y orientación cristalina de las películas delgadas de AlN.


Autor: Jaime Andrés Pérez Taborda
Contactese con el autor: [email protected]
Ciudad y Pais de publicacion:
Fecha de publicacion: Agosto de 2011
Palabras Claves: Nitruro de Aluminio, Magnetrón Sputtering, Ablación Láser, presión de gas ambiente, temperatura de sustrato
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